Inquiry
Form loading...
Категории товаров
Рекомендуемые товары

Лазерная очистительная машина — FRZ-LC

Принцип лазерной очистки в основном основан на тепловом, фотохимическом и ударно-волновом эффектах, возникающих при взаимодействии лазера с веществом. Когда лазерный луч воздействует на поверхность материала, загрязняющие вещества поглощают энергию лазера, быстро нагреваются, расширяются, испаряются или отслаиваются, обеспечивая тем самым очистку.

    Введение в оборудование

    Принцип лазерной очистки в основном основан на тепловом, фотохимическом и ударно-волновом эффектах, возникающих при взаимодействии лазера с веществом. Когда лазерный луч воздействует на поверхность материала, загрязняющие вещества поглощают энергию лазера, быстро нагреваются, расширяются, испаряются или отслаиваются, обеспечивая тем самым очистку.
    Процесс лазерной очистки включает в себя следующие этапы:
    1. Поглощение энергии: Загрязняющие вещества нагреваются после поглощения энергии лазера.
    2. Физические и химические изменения: Загрязняющие вещества претерпевают физические и химические изменения, такие как плавление, сгорание или газификация.
    3. Удаление загрязняющих веществ: Загрязняющие вещества отделяются от поверхности материала, не повреждая основание.
    К преимуществам лазерной очистки относятся отсутствие шлифовки, бесконтактность, отсутствие термического воздействия и экологичность. Она подходит для различных материалов и позволяет решать проблемы, которые не поддаются решению традиционными методами очистки.
    Сфера применения: Лазерная очистка широко используется в промышленности, например, для удаления загрязнений и покрытий с поверхностей металлов, пластмасс, керамики и других материалов, особенно подходит для очистки прецизионных деталей и сложных конструкций.

    Области применения

    Лазерная очистка широко применяется в промышленности для удаления загрязнений и покрытий с поверхностей металлов, пластмасс, керамики и других материалов, особенно подходит для очистки прецизионных деталей и сложных конструкций.

    Технические параметры

    Модель FRZ-LCF FRZ-LCU FRZ-LCG FRZ-LCC
    Средняя выходная мощность (Вт) 100-500 5-15 20-100 20-500
    Длина волны (нм) 1070 355 532 10600
    Скорость сканирования (мм/с) 20000
    Длина сканирования (мм) 100--150
    Диапазон мощности 0–100%
    Источник питания 220 В ± 10%, 50 Гц
    Язык Китайский, английский, корейский, японский
    Режим охлаждения Воздушное или водяное охлаждение

    Фотографии оборудования

    Лазерная машина для очистки (1)
    Портативная сумка в стиле
    Лазерная машина для очистки (2)
    Чемодан на колесиках
    Лазерная машина для очистки (3)
    Ящик для хранения
    Лазерная машина для очистки (4)
    Стиль шкафа

    Примеры изображений

    Примеры изображений (1)

    Удаление серебряного слоя с 5G-фильтра

    Примеры изображений (2)

    Очистка держателя для мобильного телефона от ржавчины

    Примеры изображений (3)

    Очистка от слоя ржавчины

    Примеры изображений (4)

    Очистка сварочных швов

    Примеры фотографий (5)

    Удаление ржавчины с ключей

    Примеры изображений (6)

    Pola Cleaning

    Примеры изображений (7)

    Очистка оксидного слоя нержавеющей стали

    Примеры фотографий (8)

    Очистка черных чернил с поверхности стеклянного экрана мобильного телефона

    Примеры изображений (11)

    Очистка чернил с поверхности стеклянного экрана

    Видео

    Leave Your Message